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磁控溅射镀膜衬板靶材表面清理喷砂机运用的原理是什么?
            磁控溅射镀膜衬板靶材表面清理喷砂机运用的原理是什么?下面我们先来认识一下什么是磁控溅射,最后再来讲磁控溅射镀膜靶材表面清理喷砂机运用的原理是什么。
            磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

            磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。
             磁控溅射镀膜靶材表面清理喷砂机运用的原理是什么?磁控溅射镀膜靶材表面清理喷砂机是一种清理工艺,该工艺主要是去除磁控溅射镀膜层、靶材表面上的杂质、氧化皮,以保证在次投入使用,降低使用成本。该系列设备的做法可根据不同的工件进行非标设计,该系列设备采用自动喷砂清理,如工件不规则、偏大、表面氧化层比较难清除可考虑使用加压式喷砂机进行清理,该类工件的清理,主要采用白钢玉为主要清理介质,使用白刚玉的主要作用是该磨料不含铁质,不会造对产品的污染。
        磁控溅射镀膜靶材表面清理喷砂机是我公司一款成熟产品,以投放市场多年,设备整机运行稳定,市场相应良好,目前该系列设备在玻璃行业中广泛得到使用,国内京东方、熊猫电子、信义玻璃等高端显示器、液晶屏公司的配置套厂家也广泛投入使用,该喷砂清理工艺,清理效率高、使用成本低,不会对环保造成污染,是目前最成熟的清理技术。我公司拥有强大的非标设计能力,欢迎广大客户到我公司参观考察。


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